高纯金属溅射靶材

发布时间：2023-09-25 15:09:42 0

溅射靶材是集成电路的核心材料之一，近年来向着高溅射率、高纯金属的方向发展。其下游应用场景主要包括半导体、面板、太阳能电池，随着消费电子终端市场的发展与完善，高纯金属溅射靶材的下游需求不断上升，2013-2020 年全球靶材市场规模的复合增速达 14%，市场规模逐渐扩大。溅射靶材的行业壁垒较高，美国与日本企业掌握核心技术，垄断全球市场。我国的溅射靶材行业起步较晚，较为落后，但市场需求全球领先，国产替代空间大。国内企业正在逐渐突破技术瓶颈，为打破美日垄断高端靶材市场的不利局面而努力。